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    Laurell-WS半導(dǎo)體濕法刻蝕系列

    簡(jiǎn)要描述:自1985年起,Laurell公司向遍布所有的生物化工和半導(dǎo)體材料科研領(lǐng)域的實(shí)驗(yàn)室提供表面涂敷工藝的解決方案,目前,*有超過(guò)15000套系統(tǒng)正在安全運(yùn)行。WS-1000M Laurell-WS半導(dǎo)體濕法刻蝕系列,全白色聚丙烯構(gòu)造,可內(nèi)置任何Laurell公司的旋涂機(jī)及顯影機(jī),排放簡(jiǎn)便的入氮口和DI噴頭,如果需要單工的系統(tǒng),可選擇WS-1000濕法刻蝕設(shè)備,WS-1000系列旋轉(zhuǎn)處理濕法設(shè)備可以

    • 產(chǎn)品型號(hào):WS-1000M
    • 廠商性質(zhì):代理商
    • 更新時(shí)間:2025-07-01
    • 訪  問(wèn)  量:5128

    詳細(xì)介紹

        WS-1000M Laurell-WS半導(dǎo)體濕法刻蝕系列,全白色聚丙烯構(gòu)造,可內(nèi)置任何Laurell公司的旋涂機(jī)及顯影機(jī),排放簡(jiǎn)便的入氮口和DI噴頭,如果需要單工的系統(tǒng),可選擇WS-1000濕法刻蝕設(shè)備,WS-1000系列旋轉(zhuǎn)處理濕法設(shè)備可以被配置成測(cè)試模塊構(gòu)造,安裝簡(jiǎn)便,易于拆卸,更便于操作者控制。

    一、半導(dǎo)體濕法刻蝕設(shè)備功能:
    ● 涂敷Coating
    ● 刻蝕Etching
    ● 顯影Developing - Aqueous / Solvent
    ● 清洗Cleaning-Aqueous / Solvent
    ● 可選配, Sulfuric硫化物 / Peroxide雙氧水,溶液處理(insitu mixing)
    ● 可選配, HBr溶液處理
    ● 帶溫控的顯影功能
    ● 沖洗甩干

    二、半導(dǎo)體濕法刻蝕設(shè)備特點(diǎn):
    ● 全PP材質(zhì)構(gòu)造
    ● 可集成Laurell勻膠旋涂系統(tǒng)
    ● 有排孔的濕站操作臺(tái) (易清潔)
    ● 特殊設(shè)計(jì)的濕站壓力系統(tǒng)Wet plenum
    ● 帶流量計(jì)的排液管道
    ● 各類組件的隔離設(shè)計(jì)(散熱原件,泵浦和壓力容器等)

    三、半導(dǎo)體濕法刻蝕設(shè)備材料選擇:
    可以根據(jù)應(yīng)用選擇更高級(jí)的材料;
    ● WS-1000-CP5 符合SEMI S93標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)用在消防安全和潔凈空間等領(lǐng)域。CP5符合UL94 V-O 火災(zāi)分類標(biāo)準(zhǔn)。它具有優(yōu)良的平衡的物理性能,耐化學(xué)藥品性和耐火性。

    ● WS-1000-CP7-D的材料阻燃特性符合嚴(yán)格的FMRC 4910測(cè)試標(biāo)準(zhǔn),滿足多方面條件下的難燃性,自熄特點(diǎn)和*燃燒。這種*材料也達(dá)到或超過(guò)產(chǎn)生低煙和小毒副產(chǎn)品的檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)。

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