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應用領域Harrick等離子清洗機應用領域廣泛，包括材料科學，聚合物科學，生物醫學，微流體技術，鈣鈦礦太陽能電池制備，光學器件，顯微鏡，牙科以及其他醫學研究等。離子表面改性表面改性的好處通過等離子處理來附著或吸附官能團用以處理表面，改變特定應用的表面性能。根據所使用的工藝氣體來定制引入官能團，然后可以使用適當的氣體將表面潤濕性更改為親水性或疏水性。潤濕性的提高，通過改善表面的覆蓋范圍和涂層的延展性以及增強兩個表面之間的附著力，為后續處理（例如膜的沉積或分子吸附）做好準備。等離...

EDC濕法顯影刻蝕系統光刻膠顯影（KrF/ArF）SU8厚膠顯影顯影后清洗PostCMP清洗光刻膠去除金屬Lift-off處理刻蝕微刻蝕處理新一代的旋轉噴淋式濕法處理機臺，不僅jinque控制試劑注射，還能夠大大節約試劑，綠色環保的濕法處理方案。頂蓋閥門控制技術顯影液注射頭的位置我們采用dujia的VoD頂蓋閥門控制技術，確保在基片中心位置垂直向下噴射，確保樣片表面的試劑受力均勻性。VS其他廠商提供的噴射裝置參考如下圖，是從圓弧頂蓋的不同角度傾斜噴射時，樣片收集到的試劑量不均...

據第三方機構智研咨詢統計，至2022年quanqiu光刻膠市場規模將超過100億美元。光刻膠按應用領域分類，可分為PCB光刻膠、顯示面板光刻膠、半導體光刻膠及其他光刻膠。quanqiu市場上不同種類光刻膠的市場結構較為均衡，具體占比可以如下圖所示。據智研咨詢的數據顯示，受益于半導體、顯示面板、PCB產業東移的趨勢，2019年中國光刻膠市場本土企業銷售規模約70億元，quanqiu占比約10%，發展空間巨大。目前，中國本土光刻膠以PCB用光刻膠為主，平板顯示、半導體用光刻膠供應...

等離子去膠機是我們在微波等離子處理工藝中的新產品。該批次式晶圓灰化設備成本低廉、尺寸適中，特別適用于工廠、科研院所等領域。等離子去膠機操作規程：1、自動切割小車應經空車運轉，并選定切割速度；2、使用釷、鎢電極應符合JGJ33-2001第12.7.8條規定；3、高頻發生器應設有屏蔽護罩，用高頻引弧后，應立即切斷高頻電路；4、應檢查并確認電源、氣源、水源無漏電、漏氣、漏水，接地或接零安全可靠；5、操作人員應站在上風處操作。可從工作臺下部抽風，并宜縮小操作臺上的敞開面積；6、小車、...

等離子刻蝕機一般應用于半導體加工領域，而等離子清洗機則一般應用于材料領域。等離子清洗處理可改變材料的表面化學。因此能改變材料的表面性質。例如，大氣或是氧氣等離子常用在聚合物(例如聚苯乙烯,聚乙烯)表面產生羥基。通常表面從疏水性(高水接觸角)改變至親水性（水接觸角小于30度），并增加表面潤濕性能。等離子處理也能改變其它材料的表面化學（表面性質），如硅、不銹鋼及玻璃。用低溫等離子體在適宜的工藝條件下處理PE、PP、PVF2、LDPE等材料，材料的表面形態發生顯著的變化，引入了多種...

PDMS是一種有機聚合物材料，廣泛應用微流控芯片實驗室。今天我們來介紹有關如何進行PDMS光刻復制，也稱為軟光刻工藝，為您提供一些實驗中的小技巧，優化您的實驗結果。01硅烷化模具的制備*使用模具時，必須使其疏水。SU-8模具中的硅通常具有很強的親水性，因此PDMS對它有良好的親和力，其強度足以使之無法剝離，只能將模具破壞并從頭開始實驗。這里我們使用硅烷功能，一旦在表面上yongjiu粘合，也可使接觸角超過90°，表面疏水。可以使用氣體或液體處理，即通過氣體或連續的液浴將硅烷功...

懸浮活性硅膜厚度測量，適用于MEMS微機電系統應用，光斑尺寸為25um。簡介硅基底的傳感器因其高性能、低成本和小尺寸而廣泛應用于不同的MEMS微機電系統。懸浮在圖案上的硅膜或基于SOI的傳感器上的活性硅層的厚度對于控制終平臺的性能至關重要[1]。在這里，我們已經在一個MEMS微機電系統壓力傳感器上測量了硅薄膜厚度，使用的是孔徑為250μm的FR-μProbe，該工具安裝在一個徠卡分模光學顯微鏡上。使用10倍物鏡進行測量，該物鏡與選定的孔徑大小一起對應于25μm的光斑大小(測量...