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懸浮活性硅膜厚度測(cè)量，適用于MEMS微機(jī)電系統(tǒng)應(yīng)用，光斑尺寸為25um。簡(jiǎn)介硅基底的傳感器因其高性能、低成本和小尺寸而廣泛應(yīng)用于不同的MEMS微機(jī)電系統(tǒng)。懸浮在圖案上的硅膜或基于SOI的傳感器上的活性硅層的厚度對(duì)于控制終平臺(tái)的性能至關(guān)重要[1]。在這里，我們已經(jīng)在一個(gè)MEMS微機(jī)電系統(tǒng)壓力傳感器上測(cè)量了硅薄膜厚度，使用的是孔徑為250μm的FR-μProbe，該工具安裝在一個(gè)徠卡分模光學(xué)顯微鏡上。使用10倍物鏡進(jìn)行測(cè)量，該物鏡與選定的孔徑大小一起對(duì)應(yīng)于25μm的光斑大小(測(cè)量...

旋涂曲線（spincurve）是光刻膠重要參數(shù)之一，他給我們選擇光刻膠提供了重要的指導(dǎo)意義。所以我們來(lái)介紹一下什么是旋涂曲線？怎樣使用旋涂曲線？如何獲得旋涂曲線？什么是光刻膠旋涂曲線？顧名思義，光刻膠旋涂曲線就是在旋涂工藝下，光刻膠的厚度與勻膠轉(zhuǎn)速的關(guān)系曲線。一般來(lái)說(shuō)，某一固定固含量的光刻膠在相同的勻膠條件下都會(huì)有一個(gè)相對(duì)穩(wěn)定的膜厚值。這個(gè)厚度隨著勻膠轉(zhuǎn)速的提高而降低。下圖是一個(gè)典型的光刻膠旋涂曲線：影響光刻膠旋涂曲線的因素主要有：光刻膠種類和固含量：一般來(lái)說(shuō)，固含量越大，相...

納米制造使用光刻工藝(193nm，EUV，EBL等)涉及廣泛的材料、技術(shù)和相關(guān)的處理步驟，以便生產(chǎn)明確的納米結(jié)構(gòu)。光刻膠的光刻對(duì)比曲線是工藝優(yōu)化常用的參數(shù)之一。光致抗蝕劑的對(duì)比度曲線是顯影后剩余的抗蝕劑膜厚度，作為對(duì)數(shù)繪制的曝光劑量的函數(shù)[1]。測(cè)量方法:在本篇應(yīng)用案例中，使用EBPG-5000+電子束工具以100千電子伏的速度在不同的曝光劑量下對(duì)負(fù)性抗蝕劑進(jìn)行曝光，生成100×100μm正方形的陣列，每個(gè)正方形對(duì)應(yīng)不同的曝光劑量。在顯影步驟之后，使用FR-μ探針顯微光譜儀工...

等離子處理中哪種頻率效果好？中頻？射頻？微波？KHz，中頻產(chǎn)生等離子體能量大，主要是物理作用；MHz，射頻產(chǎn)生等離子體能量和密度居中,為物理和化學(xué)作用；GHz，微波產(chǎn)生等離子體能量小，密度高，主要為化學(xué)作用；40kHz、13.56MHz和2.45GHz等離子體激發(fā)頻率運(yùn)用：激發(fā)頻率為40kHz的等離子體即超聲等離子體清洗是以物理反應(yīng)為主的等離子體清洗，也叫做濺射腐蝕（SPE）或離子銑（IM），其優(yōu)點(diǎn)在于本身不發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，清潔表面不會(huì)留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化學(xué)純...

本篇介紹了使用I101鈣鈦礦前體油墨的鈣鈦礦太陽(yáng)能電池制備過(guò)程，該油墨用于底部ITO/PEDOT：PSS陽(yáng)極和頂部PC70BM/Ca/Al陰極。ITO/PEDOT：PSS/CH3NH3PbI3-xClx/PC70BM/Ca/Al詳細(xì)步驟如下：1.基板清潔：清潔預(yù)圖案化的ITO基板。將基板在1％的高溫（70°C）中超聲處理5分鐘。在沸騰的去離子（DI）水中漂洗底物兩次（轉(zhuǎn)儲(chǔ)沖洗），然后在IPA中進(jìn)一步超聲處理5分鐘，后在沸騰的DI水中漂洗兩次。使用壓縮氮?dú)飧稍锘摹?.PEDO...

UV固化工藝是光化學(xué)反應(yīng)前沿的應(yīng)用，通過(guò)一定強(qiáng)度的紫外光照射,瞬間固化油墨、涂料、膠等相關(guān)化學(xué)品。隨著科技的發(fā)展，UV固化所涉及領(lǐng)域也更加廣泛，應(yīng)用于汽車、電子、通訊、航空航天、金屬、玻璃及塑料等制品的制造上。憑籍其對(duì)產(chǎn)品品質(zhì)的提高和優(yōu)良的環(huán)境表現(xiàn)，以每年10%以上的速度替代傳統(tǒng)固化工藝。UV照射可硬化材料中的光起始劑吸收紫外線光譜(波長(zhǎng)200-400nm)中的某些特殊波長(zhǎng)的光而產(chǎn)生斷鍵情形,這些斷鍵的物質(zhì)再去撞擊單體和預(yù)聚合體而產(chǎn)生連鎖架橋反應(yīng),瞬間將此材料從液態(tài)變成固態(tài)。...

涂膠顯影機(jī)具有可編程閥,它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻,顯影和清洗應(yīng)用的要求重復(fù)進(jìn)行,如沖洗（通常是去離子水或溶劑）,然后干燥（通常是氮?dú)猓┑群蟮奶幚聿襟E。采用此序貫閥門技術(shù)的晶圓片和管道在*干燥的環(huán)境中開通和關(guān)閉處理過(guò)程。隔離和獨(dú)立的給水器可處在靜態(tài)的位置還可以蓋內(nèi)調(diào)節(jié)。還有可選擇的動(dòng)態(tài)線性或徑向滴膠的特性。涂膠顯影機(jī)加熱位置都是貼在熱板上，透過(guò)熱傳導(dǎo)的方式對(duì)晶圓進(jìn)行加熱，每個(gè)熱板同時(shí)只有一個(gè)加熱溫度。若遇到溫度改變也即晶圓需要經(jīng)過(guò)不同的工藝溫度的處理時(shí)，就會(huì)需要時(shí)間來(lái)做...