薄膜厚度均勻性和光學特性（N&K）是集成電路和MEMS制造過程中的一個關鍵參數。薄膜沉積控制可以產生高質量的圖形，并確保在光刻步驟之后的器件性能。除了在半導體開發的步中對薄膜進行檢查的必要性外，還需要在后階段進行檢查，在這一階段進行封裝（在集成電路頂部涂上一層涂層，以保護其免受物理損傷和腐蝕）。在這里，我們使用了FR-Scanner來繪制兩個商業光刻電阻的厚度圖，這兩個光刻電阻沉積在300毫米硅晶片上，用于封裝應用。FR-Scanner是一種工具，用于自動表征硅和其他尺寸達4...

通過白光反射光譜（WLRS）和FR映射器繪制薄膜厚度目標：在大面積上表征薄膜厚度均勻性。測量方法：采用Fr-Basic與Fr-Mapper相結合的方法，在大面積的預定點上快速、準確地測量薄膜厚度。當樣品固定在一個Fr-Mapper上時，所有的測量都用一個Fr-Basic進行調節，使其在540-1000納米的光譜范圍內工作。反射探頭的有效光斑直徑為0.5毫米。樣品是涂有SiO2（熱的或TEOS）和Si3N4（LPCVD）/SiO2（熱的）4英寸硅晶片。在參考測量中，使用了高反射...

鈣鈦礦廣泛用于太陽能電池的開發。由于這些類型的太陽能電池具有良好的光伏性能，因此對它們進行了系統的研究。鈣鈦礦薄膜的厚度和形態是影響太陽能電池性能的重要因素。特別地，人們發現，當鈣鈦礦的厚度小于400nm時，鈣鈦礦太陽能電池的效率很大程度上取決于薄膜厚度；而當鈣鈦礦的厚度大于400nm時，效率則很大程度上取決于鈣鈦礦層的薄膜形態。在本應用說明中，我們使用FR工具測量鈣鈦礦薄膜的厚度。測量方法：用于表征的樣品是兩種不同厚度的CH3NH3PbBr3鈣鈦礦薄膜，它們位于標準ITO/...

WS1000濕法刻蝕機適用于哪些工藝行業中WS1000濕法刻蝕機是由全白色聚丙烯構造，可內置任何旋涂機及顯影機，排放簡便的入氮口和DI噴頭，如果需要單工的系統，可選擇WS-1000M濕法刻蝕設備，WS1000濕法刻蝕機旋轉處理濕法設備可以被配置成測試模塊構造，安裝簡便，易于拆卸，更便于操作者控制。WS1000濕法刻蝕機工作原理：WS1000濕法刻蝕機具有可編程閥，它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻、顯影和清洗應用的要求重復進行，如沖洗（通常是去離子水或溶劑），然后干燥（通常是氮...

德國Diener等離子清洗機使用過程及其結合的技術應用德國Diener等離子清洗機操作過程：人工將產品不停的放入流水線上，不停的傳送，直噴噴槍或旋轉噴槍不停的工作清洗產品表面，清洗一個產品大約需要12S，（清洗速度可根據流水線轉速可調節，流水線轉速越快則效率越高）兩把風槍清洗，故清洗一個產品只需要6S，提率，清洗完后自動流出，人工取出產品。等離子體是在氣體受到高能量放電時產生的：氣體分解成電子，離子，高度活性自由基，短波紫外光子和其他激發粒子。這些物質當被高能量放電激發時有效...

美國Tergeo系列臺式等離子清洗機為實驗室、研發和小規模生產部門提供性價比高的小型等離子清洗設備。Tergeo-EM等離子清洗機是為SEM/TEM樣品清洗應用而設計。它取代了標準Tergeo等離子清洗機中的石英窗，采用不銹鋼適配器，可放入兩個不同品牌的TEM樣品桿，可將SEM樣品架放置在內部石英板上進行清洗。特點：1）雙等離子源設計可滿足不同樣品的要求。間接模式足夠溫和，可以處理3nm超薄多孔碳網格。直接模式可以足夠強，可以去除超過幾微米厚的有機污染層。直接/浸入式清洗模式...

3850壓實密度儀壓實密度與片比容量關系3850壓實密度儀原理:鋰離子動力電池在制作過程中，壓實密度對電池性能有較大的影響。通過實驗證明，壓實密度與片比容量，效率，內阻，以及電池循環性能有密切的關系。找出*壓實密度對電池設計很重要。一般來說，壓實密度越大，電池的容量就能做的越高，所以壓實密度也被看做材料能量密度的參考指標之一。壓實密度不光和顆粒的大小、密度有關系，還和粒子的級配有關系，壓實密度大的一般都有很好的粒子正態分布。可以認為，工藝條件一定的條件下，壓實密度越大，電池的...