鈣鈦礦廣泛用于太陽(yáng)能電池的開(kāi)發(fā)。由于這些類(lèi)型的太陽(yáng)能電池具有良好的光伏性能，因此對(duì)它們進(jìn)行了系統(tǒng)的研究。鈣鈦礦薄膜的厚度和形態(tài)是影響太陽(yáng)能電池性能的重要因素。特別地，人們發(fā)現(xiàn)，當(dāng)鈣鈦礦的厚度小于400nm時(shí)，鈣鈦礦太陽(yáng)能電池的效率很大程度上取決于薄膜厚度；而當(dāng)鈣鈦礦的厚度大于400nm時(shí)，效率則很大程度上取決于鈣鈦礦層的薄膜形態(tài)。在本應(yīng)用說(shuō)明中，我們使用FR工具測(cè)量鈣鈦礦薄膜的厚度。測(cè)量方法：用于表征的樣品是兩種不同厚度的CH3NH3PbBr3鈣鈦礦薄膜，它們位于標(biāo)準(zhǔn)ITO/...

WS1000濕法刻蝕機(jī)適用于哪些工藝行業(yè)中WS1000濕法刻蝕機(jī)是由全白色聚丙烯構(gòu)造，可內(nèi)置任何旋涂機(jī)及顯影機(jī)，排放簡(jiǎn)便的入氮口和DI噴頭，如果需要單工的系統(tǒng)，可選擇WS-1000M濕法刻蝕設(shè)備，WS1000濕法刻蝕機(jī)旋轉(zhuǎn)處理濕法設(shè)備可以被配置成測(cè)試模塊構(gòu)造，安裝簡(jiǎn)便，易于拆卸，更便于操作者控制。WS1000濕法刻蝕機(jī)工作原理：WS1000濕法刻蝕機(jī)具有可編程閥，它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻、顯影和清洗應(yīng)用的要求重復(fù)進(jìn)行，如沖洗（通常是去離子水或溶劑），然后干燥（通常是氮...

德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)使用過(guò)程及其結(jié)合的技術(shù)應(yīng)用德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)操作過(guò)程：人工將產(chǎn)品不停的放入流水線上，不停的傳送，直噴噴槍或旋轉(zhuǎn)噴槍不停的工作清洗產(chǎn)品表面，清洗一個(gè)產(chǎn)品大約需要12S，（清洗速度可根據(jù)流水線轉(zhuǎn)速可調(diào)節(jié)，流水線轉(zhuǎn)速越快則效率越高）兩把風(fēng)槍清洗，故清洗一個(gè)產(chǎn)品只需要6S，提率，清洗完后自動(dòng)流出，人工取出產(chǎn)品。等離子體是在氣體受到高能量放電時(shí)產(chǎn)生的：氣體分解成電子，離子，高度活性自由基，短波紫外光子和其他激發(fā)粒子。這些物質(zhì)當(dāng)被高能量放電激發(fā)時(shí)有效...

美國(guó)Tergeo系列臺(tái)式等離子清洗機(jī)為實(shí)驗(yàn)室、研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)部門(mén)提供性價(jià)比高的小型等離子清洗設(shè)備。Tergeo-EM等離子清洗機(jī)是為SEM/TEM樣品清洗應(yīng)用而設(shè)計(jì)。它取代了標(biāo)準(zhǔn)Tergeo等離子清洗機(jī)中的石英窗，采用不銹鋼適配器，可放入兩個(gè)不同品牌的TEM樣品桿，可將SEM樣品架放置在內(nèi)部石英板上進(jìn)行清洗。特點(diǎn)：1）雙等離子源設(shè)計(jì)可滿足不同樣品的要求。間接模式足夠溫和，可以處理3nm超薄多孔碳網(wǎng)格。直接模式可以足夠強(qiáng)，可以去除超過(guò)幾微米厚的有機(jī)污染層。直接/浸入式清洗模式...

3850壓實(shí)密度儀壓實(shí)密度與片比容量關(guān)系3850壓實(shí)密度儀原理:鋰離子動(dòng)力電池在制作過(guò)程中，壓實(shí)密度對(duì)電池性能有較大的影響。通過(guò)實(shí)驗(yàn)證明，壓實(shí)密度與片比容量，效率，內(nèi)阻，以及電池循環(huán)性能有密切的關(guān)系。找出*壓實(shí)密度對(duì)電池設(shè)計(jì)很重要。一般來(lái)說(shuō)，壓實(shí)密度越大，電池的容量就能做的越高，所以壓實(shí)密度也被看做材料能量密度的參考指標(biāo)之一。壓實(shí)密度不光和顆粒的大小、密度有關(guān)系，還和粒子的級(jí)配有關(guān)系，壓實(shí)密度大的一般都有很好的粒子正態(tài)分布。可以認(rèn)為，工藝條件一定的條件下，壓實(shí)密度越大，電池的...

德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)可以處理各種形狀的樣品德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)發(fā)生的反應(yīng)為物理反應(yīng)，射頻等離子體發(fā)生的反應(yīng)既有物理反應(yīng)又有化學(xué)反應(yīng)，微波等離子體發(fā)生的反應(yīng)為化學(xué)反應(yīng)。超聲等離子體清洗對(duì)被清潔表面產(chǎn)生的影響大，因而實(shí)際半導(dǎo)體生產(chǎn)應(yīng)用中大多采用射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗。而超聲等離子則應(yīng)用于表面除膠、毛刺打磨等處理方面效果佳，典型的等離子體物理清洗工藝是在反應(yīng)腔體中加入氬氣作為輔助處理的等離子體清洗；氬氣本身是惰性氣體，等離子體的氬氣不和表面發(fā)生反應(yīng)，而是...

NXQ8000系列掩膜曝光機(jī)機(jī)械手機(jī)構(gòu)曝光系統(tǒng)NXQ8000系列掩膜曝光機(jī)對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)：高精度薄型精密雙層三維對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)，采用交叉滾柱V形導(dǎo)軌副和θ向超薄軸承及中心滑塊結(jié)構(gòu)，保證了工作臺(tái)的直線性和旋轉(zhuǎn)精度。NXQ8000系列掩膜曝光機(jī)機(jī)械手機(jī)構(gòu)：機(jī)械手采用直線導(dǎo)軌和滾珠絲杠結(jié)構(gòu)，具有高的定位精度和重復(fù)精度。NXQ8000系列掩膜曝光機(jī)上版架系統(tǒng)：上掩模版的升降導(dǎo)軌選用THK可調(diào)分離型直線導(dǎo)軌，驅(qū)動(dòng)采用高分辨率的數(shù)顯微分頭，從而保證兩掩模版的重復(fù)精度和定位精度。NXQ8000系列...