膜厚儀、測(cè)厚儀、干涉儀、厚度測(cè)量?jī)xFR的工具基于白光反射光譜（Reports），準(zhǔn)確同步的厚度測(cè)量及薄膜的折射率一個(gè)廣泛的多樣化的應(yīng)用范圍廣泛的光電特性的工具和整體解決方案，如：半導(dǎo)體、有機(jī)電子、聚合物、涂料和涂料、光伏、生物傳感、化學(xué)傳感……FR-pRo系列

光學(xué)膜厚儀膜厚儀、測(cè)厚儀、干涉儀、厚度測(cè)量?jī)x、FilmThicknessGauges【利用材料的折射率來計(jì)算的，非接觸式的膜厚測(cè)試儀】FR的工具基于白光反射光譜（Reports），準(zhǔn)確同步的厚度測(cè)量及薄膜的折射率一個(gè)廣泛的多樣化的應(yīng)用范圍廣泛的光電特性的工具和整體解決方案，如：半導(dǎo)體、有機(jī)電子、聚合物、涂料和涂料、光伏、生物傳感、化學(xué)傳感……FR-pRo系列

光學(xué)膜厚儀膜厚儀、測(cè)厚儀、干涉儀、厚度測(cè)量?jī)xFR的工具基于白光反射光譜（Reports），準(zhǔn)確同步的厚度測(cè)量及薄膜的折射率一個(gè)廣泛的多樣化的應(yīng)用范圍廣泛的光電特性的工具和整體解決方案，如：半導(dǎo)體、有機(jī)電子、聚合物、涂料和涂料、光伏、生物傳感、化學(xué)傳感……FR-pRo系列

Dake壓片機(jī)維護(hù)保養(yǎng)要注意的方方面面Dake壓片機(jī)的輕微故障如何快速檢查和處理:壓片機(jī)是壓片的重要設(shè)備之一，也是目前國(guó)內(nèi)大中小制藥企業(yè)用來制成片劑的到的設(shè)備，制藥壓片的它的主要用途是是將各種調(diào)制好的粉末或顆粒材料壓成規(guī)格不等的片狀，或者是各種異形狀，方便商家的運(yùn)輸，人們的攜帶方便和使用簡(jiǎn)單。Dake壓片機(jī)的維護(hù)保養(yǎng)及備件Dake壓片機(jī)在使用過程中出現(xiàn)的故障，有相當(dāng)一部分是由于維護(hù)保養(yǎng)不及時(shí)所造成的，維護(hù)保養(yǎng)主要應(yīng)注意以下幾個(gè)方面：(1)對(duì)壓片室及時(shí)清場(chǎng)。Dake壓片機(jī)在連續(xù)...

目的：開發(fā)一種快速、準(zhǔn)確的生物分子層厚度評(píng)估方法測(cè)量的方法：引入WLRS用于測(cè)量各層的厚度，評(píng)價(jià)生物分子固定在固體表面上的有效性及其與相應(yīng)生物分子的后續(xù)反應(yīng)。特別研究了兔（RgG）和小鼠γ-球蛋白（MgG）的吸附及其與互補(bǔ)抗體的反應(yīng)。通過配備有0.35nm光學(xué)分辨率的VIS-NIR光譜儀和白光鹵素?zé)舻腇R-Basic進(jìn)行測(cè)量。基板是厚度約為1000nm的熱生長(zhǎng)SiO2薄膜的硅晶片。結(jié)果：在圖1中，描述了在RGG–Antigg系統(tǒng)中不同層的光譜，其中顯示了由于不同生物分子層的結(jié)...

薄膜厚度均勻性和光學(xué)特性（N&K）是集成電路和MEMS制造過程中的一個(gè)關(guān)鍵參數(shù)。薄膜沉積控制可以產(chǎn)生高質(zhì)量的圖形，并確保在光刻步驟之后的器件性能。除了在半導(dǎo)體開發(fā)的步中對(duì)薄膜進(jìn)行檢查的必要性外，還需要在后階段進(jìn)行檢查，在這一階段進(jìn)行封裝（在集成電路頂部涂上一層涂層，以保護(hù)其免受物理?yè)p傷和腐蝕）。在這里，我們使用了FR-Scanner來繪制兩個(gè)商業(yè)光刻電阻的厚度圖，這兩個(gè)光刻電阻沉積在300毫米硅晶片上，用于封裝應(yīng)用。FR-Scanner是一種工具，用于自動(dòng)表征硅和其他尺寸達(dá)4...

通過白光反射光譜（WLRS）和FR映射器繪制薄膜厚度目標(biāo)：在大面積上表征薄膜厚度均勻性。測(cè)量方法：采用Fr-Basic與Fr-Mapper相結(jié)合的方法，在大面積的預(yù)定點(diǎn)上快速、準(zhǔn)確地測(cè)量薄膜厚度。當(dāng)樣品固定在一個(gè)Fr-Mapper上時(shí)，所有的測(cè)量都用一個(gè)Fr-Basic進(jìn)行調(diào)節(jié)，使其在540-1000納米的光譜范圍內(nèi)工作。反射探頭的有效光斑直徑為0.5毫米。樣品是涂有SiO2（熱的或TEOS）和Si3N4（LPCVD）/SiO2（熱的）4英寸硅晶片。在參考測(cè)量中，使用了高反射...