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    當前位置:首頁   >  產品中心  >    >    >  COPPER PLATING ACID TYPE酸性鍍銅液

    酸性鍍銅液

    簡要描述:在PCB制造和精密電子領域,銅鍍層的質量直接決定著產品的導電性能和可靠性。TRANSENE酸性鍍銅液(Transene Copper Plating Acid Type)憑借其革命性的配方設計和的工藝穩定性,已成為全球電子制造行業的黃金標準。

    • 產品型號:COPPER PLATING ACID TYPE
    • 廠商性質:代理商
    • 更新時間:2025-08-28
    • 訪  問  量:17

    產品分類

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    詳細介紹

    核心技術突破

    TRANSENE酸性鍍銅液采用創新化學體系,具有三大技術優勢:

    1. 智能穩定劑系統

    精確控制鍍液電阻率

    促進形成光亮致密鍍層

    有效抑制枝晶生長

    2. 納米級晶粒控制

    獲得均勻分布的非柱狀晶結構

    晶粒尺寸控制在50-100nm范圍

    表面粗糙度Ra<0.2μm

    3. 寬工藝窗口設計

    溫度適應范圍21-49℃(70-120℉)

    電流密度窗口20-50ASF

    兼容多種基材處理

     

    工藝性能參數

    關鍵指標

    技術參數

    工作溫度

    21-49℃(70-120℉)

    最佳電流密度

    20-50ASF

    沉積速率(20ASF時)

    0.5密耳/小時(12.7μm/h)

    銅離子濃度

    6盎司/加侖(45g/L)

    pH值范圍

    2.5-3.5

    陰陽極比例

    1:1

    工作電壓

    4-6V

    專業應用解決方案

    本產品特別適用于以下應用場景:
    ? 高密度互連(HDI)PCB制造
    ? 集成電路載板電鍍
    ? 半導體封裝通孔填充
    ? 精密連接器表面處理
    ? 電力電子器件散熱層

     

    智能工藝控制系統

    1. 精準pH管理

    采用硫酸自動調節系統

    實時監控pH波動±0.1

    確保工藝穩定性

    2. 高效過濾方案

    連續過濾系統

    推薦過濾精度1-5μm

    兼容多種耐酸材料

    3. 攪拌技術

    機械式攪拌設計

    優化流體動力學參數

    確保鍍液均勻性

     

    產品核心優勢

    1. 通孔電鍍專家

    高深鍍能力(TP值>85%)

    覆蓋高深寬比結構

    解決傳統工藝"狗骨"效應

    2. 經濟效益顯著

    沉積速率提升30%

    銅陽極100%利用率

    延長鍍液使用壽命

    3.

    通過IPC-4552A認證

    鍍層延展性>15%

    電阻率<1.72μΩ·cm

     

    選擇TRANSENE酸性鍍銅解決方案,為您的電子產品賦予超導級銅鍍層保護!讓我們攜手推動電子制造工藝邁向新高度。


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