很多人聽(tīng)說(shuō)了美國(guó)Anatech等離子刻蝕機(jī)的時(shí)候，都以為等離子清洗機(jī)就是用來(lái)清洗設(shè)備的，但是今天我要告訴大家，等離子清洗機(jī)不僅能清潔污垢。等離子清洗器(plasmacleaner)是一種新型的高科技技術(shù)，它采用等離子來(lái)達(dá)到常規(guī)清潔方式所不能達(dá)到的效果。確切地說(shuō)，等離子清洗機(jī)是一種表面處理設(shè)備。這看上去是平坦的，但其實(shí)很實(shí)用。固體、液體和氣體都是人們所感知到的三種物質(zhì)狀態(tài)。三種物質(zhì)是由原子和分子構(gòu)成的。物質(zhì)可由一種態(tài)能量轉(zhuǎn)換成另一態(tài)(如熱)。隨著氣態(tài)物質(zhì)被進(jìn)一步加熱到更高的溫度...

WABASH平板硫化機(jī)的工作原理是當(dāng)電動(dòng)機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)，油液自儲(chǔ)油箱濾油器進(jìn)入油泵，并經(jīng)油泵排油管進(jìn)入控制閥，此時(shí)，如果手控閥處于關(guān)閉位置，則油液經(jīng)控制閥及油管進(jìn)入油缸，驅(qū)使柱塞上升，如前所述，當(dāng)壓力達(dá)到規(guī)定值后，如果停止電動(dòng)機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)，單向閥即自動(dòng)關(guān)閉，從而使油缸內(nèi)的壓力維持下降（壓力表上限至真調(diào)節(jié)到所需工作壓力，但不能超過(guò)16.0Mpa）如果將手控閥打開(kāi)，則有升降平臺(tái)及柱塞的自重作用，將油缸內(nèi)的有油液經(jīng)油缸手控閥及油管壓回儲(chǔ)油箱，熱板下降，壓力表是被控制在控制閥上的，并且與液壓缸相...

美國(guó)CARVER熱壓機(jī)應(yīng)用在下列貨品生產(chǎn)技術(shù)性中：USB排線焊接、軟排線FFC與柔性pcb線路板FPC或強(qiáng)制pcb線路板pcb線路板的電焊焊接、TCP與pcb線路板pcb線路板或柔性pcb線路板FPC中間的電焊焊接、柔性pcb線路板FPC與pcb線路板pcb線路板中間的電焊焊接等。一、熱壓機(jī)用以手機(jī)上內(nèi)部零件上，觸摸顯示屏智能機(jī)大伙兒也不疏遠(yuǎn)，手機(jī)上現(xiàn)如今基礎(chǔ)是每人都有，甚至有些人還不僅一部手機(jī)。大伙兒每日用的手機(jī)上，不一定了解手機(jī)上也會(huì)采用熱壓機(jī)這類機(jī)器設(shè)備，因?yàn)闊釅簷C(jī)聽(tīng)起...

Dake壓片機(jī)可以在制藥、食品、化學(xué)工業(yè)等行業(yè)中使用，可以將具有壓片性的粉末壓制成各種片狀，例如圓形、環(huán)狀、其他異形片。據(jù)業(yè)界介紹，回轉(zhuǎn)壓片機(jī)方便，用戶調(diào)整后可以大量生產(chǎn)。其中，大型旋轉(zhuǎn)式壓力機(jī)每小時(shí)的生產(chǎn)張數(shù)可以達(dá)到30000-40000張，小型旋轉(zhuǎn)式壓力機(jī)有XYP-5、XYP-7、XYP-9三種規(guī)格，分別有5、7、9個(gè)子模具，產(chǎn)量一般為9000與大型旋轉(zhuǎn)式壓片機(jī)相比，小型旋轉(zhuǎn)式壓片機(jī)具有外形簡(jiǎn)潔、重量輕、體積小、不占用空間等優(yōu)點(diǎn)，片劑薄、壓力大、壓片速度也可根據(jù)客戶要求自...

MicroChem光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對(duì)光敏感的混合液體。在光刻工藝過(guò)程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導(dǎo)體材料在表面加工時(shí)，若采用適當(dāng)?shù)挠羞x擇性的光刻膠，可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負(fù)性兩大類。在光刻膠工藝過(guò)程中，涂層曝光、顯影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下來(lái)，該涂層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來(lái)，而未曝...

德國(guó)AlphaPlasma等離子去膠機(jī)去膠工藝是微加工工藝過(guò)程中一個(gè)非常重要的工藝環(huán)節(jié)。在光刻工藝之后，我們往往需要面臨顯影后的底膠去除或者干法蝕刻工藝后變性的光刻膠的去除工作，這些環(huán)節(jié)中光刻膠去除的是否干凈*以及對(duì)樣片是否有損傷等將直接影響到后續(xù)工藝的進(jìn)行以及器件的性能。在微電子封裝的生產(chǎn)過(guò)程中，由于指印、助焊劑、各種交叉污染、自然氧化等，器件和材料表面會(huì)形成各種沾污，包括有機(jī)物、環(huán)氧樹(shù)脂、焊料、金屬鹽等。這些沾污會(huì)明顯地影響封裝生產(chǎn)過(guò)程中的相關(guān)工藝質(zhì)量。使用等離子體清洗可...

硅片清洗設(shè)備自動(dòng)化程度高,腐蝕清洗裝置主要由水平通過(guò)式腐蝕清洗主體(槽體部分/管路部分等),移動(dòng)機(jī)械傳送裝置,CDS系統(tǒng)，抽風(fēng)系統(tǒng),電控及操作臺(tái)等部分組成;進(jìn)口優(yōu)質(zhì)透明PVC活動(dòng)門（對(duì)開(kāi)/推拉式），保證設(shè)備外部環(huán)境符合勞動(dòng)保護(hù)的相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)，以保證設(shè)備操作人員及其周圍工作人員的身體健康；機(jī)械臂定位精度高;整體設(shè)備腐蝕漂洗能力強(qiáng),性能穩(wěn)定,安全可靠;設(shè)備成本合理,自動(dòng)化程度高,使用成本低;結(jié)構(gòu)合理,適宜生產(chǎn)線上大批次操作.硅片清洗設(shè)備的運(yùn)行管理是指設(shè)備在整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程中的管理，即從選...